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分室连续PECVD设备自动控制系统

2001年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
采用可编程序控制器，根据各反应室中基片、阀门、电极等移动部件的位置及各种真空表、温度计、反应气体压力计等仪表提供的监控信号，按照预定工艺程序全自动控制基片传送过程。
　　主要技术指标如下：
　　基片传送逻辑可根据工艺条件现场编程，操作简单明了；定位精度：水平定位偏差＜±1mm；垂直定位偏差＜±0.5mm；控制系统具备标准扩展接口可与PC机相连接，进一步扩展系统功能。...
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