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URE-2000S/25型双面紫外光刻机

2008年 应用技术
  • 成果简介
　　该机采用国内首创的CCD图像底面对准技术，单曝光头正面曝光实现双面对准的总体设计技术。采用新颖的高精度、多自由度掩模－样片精密对准工件台结构设计，掩模－样片对准过程直观、套刻对准速度快、精度高。掩模板与样片的放置采用推拉式基准平板、真空吸附式，操作方便。
　　主要技术指标：
　　★曝光面积：150mm×150mm；
　　★分辨力：1.5μm（胶厚2μm的正胶...
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