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反应离子束刻蚀金刚石薄膜图形工艺

2002年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
国家攀登计划B微电子机械系统（MEMS）（批准号：85-37）项目要求制作出真正意义上的金刚石微机械部件。由于金刚石具有高度化学稳定性，常规的化学腐蚀方法不再适用。从已公开的专利或文献来看，大多应用氧化物（Al_2O_3）或氮化物作为掩模，然而氧化铝自身图形化就是有待研究的课题。应用选择生长法生长金刚石来形成所需图形，图形的质量难以保证。基于对离子溅射过程中的基本物理现象有较深入的研究，在...
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