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一种光开关的设计及制作工艺

2006年

应用技术

成果简介

本发明涉及光纤通讯和微细加工技术领域，特别是一种光开关的设计及制作工艺。
a、用LPCVD低压化学气象淀积在双面抛光的硅片上双面淀积低应力氮化硅厚度；
b、正面光刻氮化硅悬臂梁图形；
c、RIE反应离子刻蚀形成氮化硅悬臂梁图形；
d、背面光刻出腐蚀窗口和光纤沟槽腐蚀窗口；
e、RIE反应离子...

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