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预处理光学镀膜材料及其预处理方法

2005年 应用技术
  • 成果简介
本发明公开了一种预处理光学镀膜材料及其预处理方法。该方法包括：
（1）选用光学镀膜材料的原料粉体；
（2）在温度为700～1400℃，压力为10～40Mpa条件下制备素坯；
（3）在高温烧结炉中烧结，在烧结温度900～1800℃条件下恒温烧结2～4小时，制备坯体；
（4）将坯体严格按照镀膜机坩埚的尺寸加工成型；...
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