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透射电镜用薄膜样品的制备方法

2004年 应用技术
  • 成果简介
本发明公开了一种透射电镜用薄膜样品的制备方法，具体步骤为：1)利用磁控溅射方法镀制金属或合金膜，磁控溅射以合金靶为负极，衬底为正极，背底真空度2.0～8.0×10^(-5)Pa；气氛为Ar气氛，真空度6.5～7.5×10^(-1)Pa；电流0.5～2A；电压100～300V；2)在金属或合金膜上冲出圆片；3)将圆片进行双喷减薄或者离子减薄制得电镜观察用的样品。本发明采用磁控溅射的方法，可以...
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