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一种自动调节化学机械抛光设备硅片研磨压力的方法

2007年 应用技术
  • 成果简介
本发明公开了一种自动调节化学机械抛光设备硅片研磨压力的方法，使用化学机械抛光设备对硅片研磨，在该化学机械抛光设备的HCLU内加装压力感应传感器，然后循环执行以下步骤：在该化学机械抛光设备上安装新的固定环，重新设定固定环厚度值，将研磨头转到HCLU正上方，测量新的固定环上的压力值并自动记录，化学机械抛光设备开始研磨作业，当研磨头转到HCLU时，在卸下硅片的同时测量固定环的厚度，根据该厚度差计...
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