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用图像同步采集光刻成像系统的像场弯曲测量方法

2006年 应用技术
  • 成果简介
本发明公开了一种用图像同步采集光刻成像系统的像场弯曲测量方法，首先使图像同步采集光刻成像系统进行步进运动，每步进一次，都用成像探测器对掩膜板在被光刻的器件上成像的图形进行扫描，采集到在被光刻器件上的成像区域上，各点成像随垂直方向空间位置变化而变化的数据，之后根据这些数据，计算出曝光区域上各点的最佳焦距，将这些最佳焦距数据进行归纳，得到像场弯曲数据。本发明通过上述方法，可以在光刻工艺过程中同...
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