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PLZT陶瓷厚膜的研制及其在MEMS、MOEMS技术中的应用

2007年 基础理论
  • 成果简介
该项目是上海-应用材料研究与发展基金,在实施过程中采用磁控溅射技术在Sr(Nb)TiO_3单晶衬底上外延生长出高度择优取向、显微结构致密、结晶完善、厚度达到1.5um的PLZT(9.4/65/35)陶瓷膜;样品呈现细长电滞回线。满足光波导技术对材料的设计要求。研究了化学溶液沉积法中影响陶瓷膜微结构的主要因素,获得显微结构致密、厚度为3um的PLZT(9/65/35)陶瓷膜;提出膜层内应力累...
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