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改性非晶硅／晶体硅复合薄膜的制备及性能研究

2007年 应用技术
  • 成果简介
　　研究了掺C(N)改性非晶硅／晶体硅复合薄膜的制备，探索了薄膜成核、析晶过程的基本规律及薄膜的基本制备工艺。
　　制备了复合纳米硅薄膜，其中光电敏感相周围的基质相为相对高阻的氮（碳）化硅，为降低光生载流子的横向扩散打下了基础。并从理论上揭示了C(N)对薄膜中晶体发展规律的控制作用并揭示了C(N)对薄膜本体率控制的内在原因，为控制薄膜的性能提供了理论依据。...
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