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一种钝化多孔硅表面活性的方法

2007年 应用技术
  • 成果简介
本发明涉及一种钝化多孔硅表面活性的方法，属半导体材料(功能信息材料) 制备技术领域。本发明推出一种钝化多孔硅表面活性的方法。该法有设备简单、操作方便、产量高和适用于工业生产的优点。此外，经该法处理的湿的多孔硅，可用常规的干燥技术进行干燥处理，制得干燥的多孔硅，为多孔硅付诸实用铺平道路。
　　本发明通过采用以下技术方案使上述技术问题得到解决。一种钝化多孔硅表面活性的方法，其特征在...
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