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大面积无衬底自支撑金刚石厚膜的制备技术

2007年 应用技术
  • 成果简介
　　成果综述：
　　本项目所研究开发的高功率DC Arc Plasma Jet CVD金刚石膜沉积系统设备采用了独特的大口径直流磁控长通道距技术（中国发明专利），成功地解决了大面积电弧放电等离子体的空间温度和成分分布的均匀性难题，从而保证了大面积金刚石膜的高速均匀沉积。目前已开发两种不同功率级别，100千瓦级和30千瓦级。配套的金刚石膜制备工艺包括工具级和热沉级金刚石厚膜制备技术已基本...
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