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0.15微米射频制程

2006年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
　　该项目的主要目标是为生产线提供先进的可供于批量生产的0.15微米射频工艺。开发工作分为两大块：基本工艺制程研发和数据库的建立。0.15微米射频工艺是基于GSMC已成熟的0.15微米逻辑技术的基础上进行的。工艺制程研发所要解决的是提供低漏电，高性能的平面集成的三极管。抗干扰和低噪声的深井模块、电阻、电容、电感和变容二极管。以及如何把它们集成在同一工艺流程中而不会互相影响性能。但是相比于0.15微...
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