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硅基超高速双极集成电路研究

1999年 应用技术
  • 成果简介
中国国内首批开发研究成功全套双层多晶硅结构的多晶硅发射极双极工艺技术,此套工艺技术与国际上先进的深亚微米工艺技术接轨。全套工艺技术包括了双层多晶硅结构的多晶硅发射极技术、硅的深槽隔离、0.1μm浅结、钴硅化物技术、多种自对准结构、SIO_2/SI_3N_4双层介质L型侧墙技术等。利用此套工艺技术,中国国内首创研制成功双层晶硅结构发射极高速双极晶体管。应用及推广前景:“九五”初已与24所、华晶中央研...
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