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紫外负型光刻胶及其它胶种

2005年

应用技术

成果简介

1、成果内容简介：紫外负性光刻胶及其他胶种(正胶)是集成电路制造中的关键材料，80年代“巴统”一直将其列为禁运范围。“八五”期间为了满足中国微电子加工技术从5微米向3微米技术转化，并为“九五”1微米技术的发展打下基础。苏州电子材料厂同复旦大学、交通大学联合研制了FSN-2(出厂牌号RFJ-230)负性光刻胶，JSP-IV(出厂牌号RZJ-301)正性光刻胶。并要求其综合性能分别同OMR-85胶和A...

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