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真空蒸发制备三氧化钨气致变色薄膜的方法

2002年 应用技术
  • 成果简介
该发明专利涉及薄膜制备方法—一种真空蒸发制备三氧化钨气致变色薄膜的方法。制备方法包括以下步骤：清选基片，将三氧化钨粉末或粉末压片放入电子束蒸发器真空室的坩埚中，将铂丝放在电阻式加热源上，并将清洁的基片固定在样品架上；用电子束加热使三氧化钨升华并沉积在基片上。真空镀膜机真空室压力为10^(-2)-10^(-3)Pa，真空室温度约200-300℃，电子束流0.1-0.2mA；通过电阻加热蒸镀一层铂催化...
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