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4英寸半绝缘砷化镓单晶材料

2001年 应用技术
  • 成果简介
砷化镓材料是电子工业中应用广泛的基础性材料，该成果采用高压液封切克劳斯基(HP－LEC)工艺，首创了原位提纯工艺和二步热处理工艺，解决了大尺寸晶体生长的热场设计、化学计量比的控制、碳含量的精确控制、抛光片的批量加工等关键技术，成功地研制出中国第一颗4英寸砷化镓单晶和第一批4英寸砷化镓双面抛光片。应用情况及推广前景：砷化镓产品民用卫星广播通讯、移动通讯、光通讯、多媒体技术、超高速电子计算机等方面的应...
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