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MgO介质保护膜的研究开发

2001年

应用技术

成果简介

在AC－PDP中目前均采用以PbO为主要成分的低熔点玻璃作为介质层，但该种材料耐离子轰击性能差，二次电子发射系数也不够大，从而影响PDP的正常工作。为克服这一缺点，就必须在介质层表面涂覆一层保护膜，使AC－PDP的着火电压及维持电压显著降低，工作稳定性及寿命均得以大大提高。所以制备性能优良的介质保护膜是AC－PDP开发研究的关键技术之一。MgO膜由于其性能优良，是当前世界各国用于介质保护膜的唯一材...

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