首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

四室连续多元化合物半导体成膜系统的研制

2004年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
化合物半导体成膜系统由进片室、金属预制层制备室、化学处理室和出片室线性连接构成，进片室内有多元共蒸发系统和一个磁控溅射靶位，金属预置层制备室有多个磁控溅射靶位和等离子清洗系统，化学处理室含有衬底加热、气化合成反应和气体输送等系统组成，出片室设有两个磁控溅射靶位和四套蒸发源系统，每室配备独立的分子泵排气与真空压强自动控制系统，各室由方口闸板阀联接。采用该系统可使金属预置层的溅射沉积与化学反应...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统