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3DA3807型高频放大管壳额定双极型晶体管

2000年 应用技术
  • 成果简介
该产品采用N型硅外延片、双离子注入和和LEC(低发射区浓度)工艺结构。有效控制基区和发射区浓度，保证了典型的LEC工艺晶体管参数特点。产品具有电流增益特别高、饱和压降小、电流容量大、输出线性好等特点，参数指标达国外同类产品水平，填补国内空白，属国内领先。...
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