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高分辨率超薄有序抗蚀层及其刻蚀技术的研究

2000年 应用技术
  • 成果简介
该项目研究了高能电子在胶层及衬底中与原子相互作用的物理机理，首次提出了适宜描述电子在多层介质中散射时在两层介质界面上散射路径和散射方向变化的“折射”模型。运用混合散射模型，用Monet Carlo方法模拟了电子在不同条件下电子在胶层及衬底中 的散射轨迹，从理论上证明了采用超薄有序抗蚀层在深亚微米、纳米分辨率电子束光刻中具有十分重要的意义。计算表明，采用超薄有序抗蚀结合低能(1-3kV)电子，采用低...
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