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光纤通信电路用SI-GAAS材料研究

2000年 应用技术
  • 成果简介
砷化镓材料是电子工业的基础性材料，在军用和民用领域有广泛应用。其技术指标为：电阻率>1×10^7Ω.cm；迁移率：>5000cm^2/V.S；碳浓度：<5×10^(15)/cm^3；截面电阻率不均匀性：<30%(3″)、<40%(4″)；位错密度：<8×10^4/cm^2(3″)、<1×10^5/cm^2(4″)；晶片厚度：625±25μm(3″)、650±25μm；TTV：<10μm(3″)、<...
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