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陶瓷装饰镀层真空镀覆技术试验研究

1998年 应用技术
  • 成果简介
该成果是在真空条件下，以陶瓷材料为溅射源，在金属基材表面镀覆陶瓷装饰膜层。重点进行了陶瓷材料靶源在真空环境下的镀膜条件研究，得出了离子束溅射镀膜技术适合于陶瓷膜试验室制备手段和射频溅射技术有可能用于生产的结论，并进行了稳定化ZrO_2陶瓷(ZrO_2-Y_2O_3)为靶材的镀膜试验，考察工作真空、基片温度及O_2分压对成膜及相结构的影响，制备成功单斜-立方混合结构的ZrO_2膜。陶瓷膜（尤...
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