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离子渗碳工艺

1997年 应用技术
  • 成果简介
　　该工艺是在自行研制的多用途离子轰击炉上实现的。用NH3作为稀释气，用C3H5O作为渗济，通过调整其比例进行渗碳和扩散处理。与气体渗碳相比，该工艺具有：渗速快、为气体渗的2-3倍，无内氧化，表面光亮，无污染等优点。表面碳浓度可控，精度可达±0.05%，碳沿层深分布平缓、渗层组织致密。所采用的辉光扩散较真空扩散速度快得多，并首次提出这种扩散模式。所优化的多用途离子轰击炉处于国内领先地位。首次提出了...
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