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TDL（R）-J40型光学晶体炉

1997年

应用技术

成果简介

　　该炉是用直拉法控制激光固体材料（如钇铝石榴石，铝酸钇等）单晶体的专用设备。它可以在大气或充入各种纯净保护气体下工作。曾获机械工业部和陕西省科技进步二等奖。
　　该设备的主要性能指标如下：
　　炉室尺寸：直径400mm；
　　采用中频加热电源：25KW，2500Hz；
　　采用电阻加热电源：42KVA；
　　最高加热温度：2100℃； ...

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