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1.5～2微米实用型分步重复投影光刻机

1996年 应用技术
  • 成果简介
该光刻机采用电视对准系统，在国内首次实现硅片掩模同轴自动对准；采用自己研制的精缩投影物镜与新型光均匀器组成的曝光系统；具有X-Y独立伺服粗微精密定位工件台、计算机管理及校正软件和主从控制系统，提高了整机的功能和自动化程度。它具有1.5微米分辨率，可用于256K电路；套刻精度优于0.45微米，其主要功能及技术指标达到国际80年代中期水平。用该设备与国内工艺首次小批量完成2微米2000门CMO...
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