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铝、钽、钨、铜及氮化钛等金属纳米磨料CMP技术及其应用的研究

2005年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
①采用高PH值(一般PH值大于10.5)抛光液,实现了抛光高速率、反应产物可溶、易于清洗;
②抛光速率可控,防止设备腐蚀,减少了金属离子的污染;
③按照速率的要求来确定温度;
④利用络合剂解决在碱性介质下氧化物和氢氧化物的沉淀问题,
⑤利用质量传递υ的关系使反应产物迅速脱离表面,增加了高低的选择比和表面的平整度...
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