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紫外光CVD低温法介质膜制备新工艺的研究及其应用

1993年

应用技术

成果简介

该课题研究内容包括低温光CVD介质膜工艺技术和光CVD样机的研制以及光CVD薄膜特性测试分析三部分。采用无汞敏化紫外光CVD技术低温生长了质量良好的TiO_2和SiO_2薄膜，不仅提高了淀积速率，而且降低了工艺污染。这项技术的开发在国内外属首次报导。...

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