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旋转式四室连续沉积设备与系统

1993年

应用技术

成果简介

　　该系统为国内第一台分室连续PCVD系统，能连续于分室中生长出大面积、均匀、优质的掺杂SiC合金、μC－Si、本征a－Si∶H及SiN介质薄膜，且交叉污染远小于单室系统，薄膜器件多层结构可以在真空条件下一次完成。它与线列式系统相比，具有造价低和操作简单的特点，该系统全部采用国产元器件，结构合理，性能达到国际先进水平，适用于实验室的开发研究工作。利用该系统制备的10×10平方厘米集成型a－Si∶H...

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