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水溶性光致抗蚀干膜（掩孔用）

1993年 应用技术
  • 成果简介
　　水溶性抗蚀干膜（掩孔用）是一种适用于电子线路板掩蔽孔法制板工艺要求的新型水溶性抗蚀材料。它有较好的韧性及抗蚀性能，在碱性显影及酸性蚀刻等工艺中对线路板上的“孔”能起到掩蔽、保护作用。该抗蚀干膜采用了新型的高分子成膜物组合，优化了抗蚀层的各种组分。其紫外吸收光谱范围为220～420nm（λmax ＝365±5nm），安全光波长＞460nm，膜厚50μm，对4mm以下的孔掩蔽率为100%，在20～...
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