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In-cell镀膜玻璃

2017年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　采用连续式磁控溅射技术即立式溅射方式，直流磁控溅射工艺沉积半导电膜， 入射到衬底上的溅射原子便直接吸附在薄膜上，并通过联并作用而形成不同结构的薄膜，该技术达到基板在低于100℃温度下沉积导电薄膜，增加了透光度， 色彩还原度高，更鲜艳、饱和、自然， 增强屏幕的显示效果。
　　该产品已成功导入产业化，目前产品良率达到98.5%以上，可用于显示器件保护屏，如LCD电视、PDP电视、手提电...
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