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稀土锆钇钛复合刚玉研磨材料生产新工艺

2013年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　　随着光学技术和集成电路（IC）技术的迅猛发展，对光学元件的精密和超精密抛光、集成电路的化学机械/平坦化（CMP）技术的要求也越来越高，甚至达到了极为苛刻的程度，尤其是在表面粗糙度和缺陷的控制方面，与国外先进水平相比存在着很大的差距。造成这种差距的核心技术是磨料的技术。
　
　　磨料是工业生产不可缺少的基础材料。我国发展磨料工业的资源非常丰富，而且品质很高，是世界上为数不...
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