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多波长相移干涉术研究

2001年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
　　高速发展的微电子、光电子等高科技领域为获得高性能元件和高信息容量，对元器件表面光滑程度提出了愈来愈高的要求，其表面粗糙度须达到纳米甚至亚纳米量级。如超光滑硅片，X光光学元件、二元光学元件、高密度磁盘、光盘等表面都要求其表面粗糙度达到纳米甚至亚纳米量级，多波长“数字光学轮廓仪”正是满足这一需求的高精度的测量仪器，在相关领域的应用日益广泛。项目通对多个波长下所测包裹相位的解调分析，得出被测表面轮廓...
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