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确定半导体特征的方法和系统

2006年 应用技术
  • 成果简介
公开了用于确定半导体特征的方法和系统。在一具体实例中，本发明提供了一种用于确定部分处理的集成电路的一个或多个特征的方法。该方法包括提供衬底材料的步骤。该方法进一步包括在衬底材料内形成至少一个开口的步骤。开口可通过开口特征来表征，开口特征包括与未知体积相关的深度和开口宽度。该方法包括提供填充材料的步骤。该方法还包括处理填充材料使该填充材料的第一部分进入开口中并占据与开口特征相关的整个未知体积...
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