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半导体硅片的清洗装置

2006年 应用技术
  • 成果简介
　　本实用新型提供一种半导体硅片的清洗装置，包括清洗水槽和承载硅片的托架，其中，该装置还包括一个机械悬臂，该机械悬臂上设有至少一个超声波振荡发生器，其中，该机械悬臂可以伸入清洗水槽内运动，设在机械臂上的超生波振荡发生器在运动过程中提供超生波能量。与现有技术相比，安装在机械悬臂上的超声波振荡器，可以随着机械悬臂的运动产生均匀的超生波能量，有效提高硅片表面超生波能量的均匀性，从而更好地去除硅片表面的微...
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