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一种硅的微通道制作方法

2007年

应用技术

成果简介

本发明涉及一种微机电系统器件制作中的微通道制作方法，属于微电子以及微机电系统技术领域。将n(100)中阻硅在浓度为40%的HF:C_2H_5OH=1:1的溶液中在一定条件下可以形成1微米左右大孔，将这一层作为模板，利用KOH或四甲基氢氧化铵或类似溶液先腐蚀出倒金字塔凹坑，利用宏多孔硅腐蚀工艺，就可以腐蚀出微通道。通过氧化这样的微通道结构就可以用来制作用于夜视设备制作的微通道板。按本发明提供...

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