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电感耦合式等离子体刻蚀机

2004年 应用技术
  • 成果简介
成果内容：该设备是基于真空中的高频激励而产生的辉光放电获得化学活性微粒与被刻蚀材料起化学反应产生辉发性物质进行刻蚀的。其主要包括真空系统及气路控制系统、电器自动控制及计算机程序、刻蚀工艺软件，RF射频源及MFC质量流量计等。具有刻蚀速率快、精度高等优点。目前国内尚无此类仪器的生产，因此该产品的开发填补了国内空白，达到国际同类产品水平。主要技术指标：1．极限真空度5×10^(-6)托，工作真空度10...
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