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1微米分步重复投影光刻机

2005年 应用技术
  • 成果简介
一、成果内容简介、关键技术、技术经济指标：1、成果内容简介：该专题研究成功半导体专用设备分步重复投影光刻机。主要用于中国微电子领域的光刻工艺，用来研究和生产VLSI电路，是发展中国电子工业急需的关键工艺设备。该机的功能在目前是国内最齐全的、含有版库管理系统、可编程掩模光栏、自动调焦调平、可编程调焦、自动光量控制、图形阵列自动优化设计、同轴掩膜自动对准、同轴硅片自动对准(整片、逐场、选场)、硅片自动...
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