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三轴自对准法制备内腔接触式垂直腔面发射激光器

2006年 应用技术
  • 成果简介
三轴自对准方法制备的垂直腔面发射激光器属半导体光电子技术领域。流程如图3-1-9所示，各步骤均用常规技术，包括以下步骤：光刻；采用光刻胶做掩膜，腐蚀上分布布拉格反射镜1到欧姆接触层3，并呈双沟状；淀积p型欧姆接触电极Ti/Pt/Au_2；剥离，只在欧姆接触层3上留有TX/Pt/Au；套刻；光刻胶和p型欧姆接触电极Ti/Pt/Au_2共同作为掩膜，分别向下腐蚀无掩膜保护的上分布布拉格反射镜1...
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