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Si基碲镉汞外延材料(中科院)

2004年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
通过本项研究,可以获得大面积碲镉汞外延材料,并替代现在的GaAs衬底碲镉汞材料,提高目前研制的焦平面器件可靠性以及解决将来大规模焦平面技术的关键技术。获得焦平面器件进行验证,性能达到或优于现在焦平面器件水平。项目研究内容及其解决的关键技术:
1. Si/CdTe基复合外延衬底材料:包括Si衬底制备以及低温氧化层去除技术;外延层极性控制技术;大规模条件下外延生长技术; <...
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