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溅射镀膜靶材

2006年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
溅射镀膜靶材具有材料化学纯度高、晶粒细小、分布均匀，产品导热、导电效果好，无气泡、粘结强度高等优点。在同等使用条件下，与国内外同类产品相比具有溅射速率高、镀膜速率变化幅度小、折射率稳定、多层膜分布变化幅度小，使用寿命长等特点，有较强的技术优势和市场竞争力。
据《半导体国际》报道2005年全球半导体市场规模将达到2265亿元，较2004年增长6.3%。预计2006年半导体...
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