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基于a面6H-SiC衬底上非极性a面GaN的MOCVD生长方法

2016年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
  本发明公开了一种基于a面6H-SiC衬底的非极性a面GaN薄膜生长方法,主要解决常规非极性材料质量差的问题。其生长步骤是:
  (1)将a面6H-SiC衬底置于MOCVD反应室中,并向反应室通入氢气与氨气的混合气体,对衬底进行热处理;
  (2)在a面SiC衬底上生长厚度为100-200nm,温度为600-800℃的无应力AlInN成核层;
  (3)在所述...
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