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共轭距可变的光刻投影物镜、光刻方法

2016年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　一种共轭距可变的光刻投影物镜、光刻方法，该共轭距可变的光刻投影物镜的构成沿物平面至像平面的光轴方向顺次包括由第一透镜、第二透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和第五透镜构成的第一组合透镜组、孔径光阑、由第六透镜、第七透镜和第八透镜构成的第二组合透镜组，第一组合透镜组的后焦点、孔径光阑的中心和第二组合透镜组的前焦点三者重合构成双远心光路。本发明可以有效地实现待曝光HDI基板厚度变化达到0.025m...
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