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12英寸40nm生产型薄膜沉积设备

2016年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
　　（1）任务来源：“12英寸40nm生产型薄膜沉积设备研发”项目来源于2014年沈阳市科学技术计划项目，是本公司在实施国家科技部 “十一五”重大专项-“90-65nm等离子体增强化学气相沉积设备研发与应用”项目的基础上，特别为国内最大芯片制造企业-中芯国际40nm生产线研制开发的薄膜沉积设备。目前，国家“十一五”重大专项项目已顺利通过02专项的验收。
　　（2）应用领域和技术原理。 ...
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