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原子层沉积系统

2016年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
  1、课题来源与背景
  本课题为国家科技重大专项项目支持,研制针对32nm 以下技术代8 英寸原子层薄膜沉积(ALD)实验型样机及相应的薄膜沉积工艺,满足32nm 以下节点MOS 器件的高K 介质工艺;探索ALD 生产化方案。
  2、技术原理及性能指标
  原子层薄膜沉积技术(Atomic Layer Deposition,ALD),也称为原子层化学气相沉...
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