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具有压印力解耦功能的纳米压印平行对准系统

2016年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
　　纳米压印（Nanoimprint Lithography， NIL）是一种新兴的光刻替代技术，与印章类似，它是利用机械挤压的方式，直接在具有粘弹性材料的基板上制造出微纳米级别图案的一种方法。该技术可以大批量重复性地在大面积基板上制备纳米级图形结构，并且所制出的高分辨率图案具有相当好的均匀性和重复性。由于有制作成本极低、简单易行、效率高等优点，因此，与极端紫外线光刻、X 射线光刻、电子束刻印等其...
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