首页成果登记
注册 找回密码
国家科技成果网
  		•
热门搜索：  激光   高分子   石油   并网   纳米   太阳能光伏
扫描二维码关注国科网

登记 排行 政策 对接 转化 专栏
国家科技成果网 › 首页 ›成果 › 查看内容

磁控溅射镀膜阴极机构

2016年 应用技术  成熟应用阶段
  • 成果简介
　　在目前等离子体磁控溅射镀膜中，阴极由环形磁铁和铜背板及靶材等部件组成，利用平面靶材进行溅射镀膜时，由于磁场的不均匀，溅射跑道窄小。靶材的利用率很低，只有30%-35%左右。造成靶材的极大浪费。
　　本发明充分研究磁控溅射镀膜磁场的特性，在镀膜靶材与铜背板之间加入一个与磁场溅射跑道相匹配的环形的铁片，使磁力线变得更加的散开，可以极大地扩大溅射跑道的宽度，提高靶材的利用率。靶材利用率由...
相关成果

标签云

相关机构

关于国科网   我们的资源   我们的服务   免责声明   常见问题    软件下载    成果登记   联系我们  
Copyright 2001-2020 All Rights Reserved© 国科网 版权所有
国家科技成果信息服务平台 主管单位：科学技术部火炬高技术产业开发中心
京ICP备09035943号-33 京公网安备110401400097
在线客服系统