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一种顶栅结构场致发射显示器后板及其制作方法

2015年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
本发明公开了一种顶栅结构场致发射显示器后板及其制作方法，按照以下步骤：
(1)制作阴极；
(2)制作下层SiO2绝缘层；
(3)制作绝缘介质层；
(4)制作上层SiO2绝缘层；
(5)制作顶删极；
(6)制作阴极发射体，完成后板的制作。
本发明的改进印...
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