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超支化聚硅氧烷基光刻胶

2015年 应用技术  中期阶段
  • 成果简介
本发明公开了一种超支化聚硅氧烷基光刻胶，为了克服现有光固化树脂粘度大、固化物无法转化为功能器件的不足，本发明提供了一种以超支化聚硅氧烷为基体树脂的光刻胶，成份为重量百分比为30～90的超支化聚硅氧烷、10～70的活性稀释剂和2～5的光引发剂。本发明含有甲基丙烯酰基团，具有低粘度、多官能度、高反应活性等特性，可快速光固化且固化物可转化为硅氧基陶瓷。...
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