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一种过压脉冲增强磁控溅射镀膜方法

2017年 应用技术  初期阶段
  • 成果简介
　　发明一种过压脉冲增强磁控溅射镀膜方法，包括以下步骤：将工件清洗干燥后，放置在磁控溅射离子镀设备的真空腔中；将所述真空腔抽真空，通入氩气，对工件进行离子清洗；对工件进行镀膜：其中，过压脉冲靶电源为：靶材脉冲峰值电压为600V～900V、脉冲宽度为200μs～500μs、且脉冲频率为1KHz；冷却至室温，取出工件，即得。本发明方法解决了现有技术中薄膜厚度沿靶基距方向分布均匀性差的问题，制得的薄膜厚...
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